ULVAC 光學膜用EB槍 EGO-406M
特點
高性能偏轉線圈提供出色的掃描性能和穩(wěn)定,均勻的成膜工藝。
用途
電子束蒸發(fā)的蒸發(fā)源
規(guī)格
| 型號 | EGO-1G | EGO-40M | EGO-206M | EGO-406M | |
| 光束偏轉角度 | 270° | ||||
| 坩堝數(shù)量 | 0 | 4 | 6 | 6 | |
| 坩堝容量 | - | 10cc ×2 / 40cc ×2 | 20cc | 40cc | |
| 冷卻水量 | 坩堝 | - | 10L/min | 10L/min | 10L/min |
| 線圈 | 2L/min | - | - | - | |
| 外形尺寸 W×D×H | 168×285×174mm | 170×309×174mm | 200×339×176mm | 200×339×176mm | |
| 重量 | 10kg | 18kg | 18kg | 18kg | |
| 適用電源 | HPS-1000N-G100/G200 | ||||
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