ULVAC 光學膜用EB槍 EGO-1G
特點 高性能偏轉線圈提供出色的掃描性能和穩(wěn)定，均勻的成膜工藝。 用途 電子束蒸發(fā)的蒸發(fā)源 規(guī)格 型號 EGO-1G EGO-40M EGO-206M EGO-406M 光束偏轉角度 270° 坩堝數量 0 4 6 6 坩堝容量 - 10cc ×2 / 40cc ×2 20cc 40cc 冷卻水量 坩堝 - 10L/min 10L/min 10L/min 線圈 2L/min - - - 外形尺寸 W×D×H 168×285×174mm 170×309×174mm 200×339×176mm 200×339×176mm 重量 10kg 18kg 18kg 18kg 適用電源 HPS-1000N-G100/G200
上海巖瀨國際貿易有限公司 Tel：021-63333-365 Fax：021-63333-367 Add：上海市松江區(qū)滬亭北路199弄九亭中心5號樓811室 Email：sh@iwase365.com